? ?電子半導(dǎo)體行業(yè)中酸堿性廢氣的來(lái)源為化學(xué)清洗站，具有刺激性及有害人體，故酸堿性廢氣的處理方法一般是以濕式洗滌塔做水處理后再排入大氣。
　? ?洗滌塔利用床體或濕潤(rùn)的表面可以去除0.1微米以上的粒子。其氣體與液體的接觸方式有交叉（垂直交叉）流式、同向流式及逆向流式三種，而水流的設(shè)計(jì)上，有噴嘴式，噴霧式，頸式及拉西環(huán)式等四種。 ? ? ?半導(dǎo)體企業(yè)生產(chǎn)過(guò)程中產(chǎn)生的廢氣均可處理： ? 集成電路生產(chǎn)企業(yè)：主要包括數(shù)字集成電路板及模擬集成電路板生產(chǎn)企業(yè)。 ? 分立器件生產(chǎn)企業(yè)：主要包括晶體二極管、三極管，整流二極管，功率二極管、化合物二極管等生產(chǎn)制造企業(yè)。 ? 光電組件生產(chǎn)企業(yè)：包括LED、OLED、LCD、光伏太陽(yáng)能等的生產(chǎn)制造企業(yè)。 ? ? ?由于半導(dǎo)體工藝對(duì)操作室清潔度要求極高，通常使用風(fēng)機(jī)抽取工藝過(guò)程中揮發(fā)的各類(lèi)廢氣，因此半導(dǎo)體行業(yè)廢氣排放具有排氣量大、排放濃度小的特點(diǎn)。廢氣排放也以揮發(fā)為主。 與半導(dǎo)體制造工藝相比，半導(dǎo)體封裝工藝產(chǎn)生的廢氣較為簡(jiǎn)單，主要是酸性氣體、環(huán)氧樹(shù)脂及粉塵。酸性廢氣主要產(chǎn)生于電鍍等工藝；烘烤廢氣則產(chǎn)生于晶粒粘貼、封膠后烘烤過(guò)程；劃片機(jī)在晶片切割過(guò)程中，產(chǎn)生含微量矽塵的廢氣。

　? ?一般氨氮去除率在98%以上。通?？梢赃_(dá)到99.5%以上,含各類(lèi)高難度的無(wú)機(jī)、有機(jī)氨氮廢水均可處理。根據(jù)我們工程實(shí)踐，一般企業(yè)污水氨氮處理后，COD的降幅在10~60%左右。適合化工、化肥、冶金、焦化、垃圾滲濾液、醫(yī)藥、食品、稀土、光伏、皮革、電鍍、農(nóng)藥、印染行業(yè)等行業(yè)的污水氨氮治理。

　? ?針對(duì)大風(fēng)量低濃度VOC采用轉(zhuǎn)輪濃縮+RTO處理工藝，去除率達(dá)到85-99%；去除原理：濃縮轉(zhuǎn)輪分處理區(qū)，脫附再生區(qū)，冷卻區(qū)，轉(zhuǎn)輪在各個(gè)區(qū)內(nèi)，連續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn)，VOC廢氣經(jīng)過(guò)前置過(guò)濾器送到濃縮轉(zhuǎn)輪處理前，在處理區(qū)被吸附劑除去，在再生區(qū)被高溫脫附，冷區(qū)區(qū)的空氣再加熱作為再生空氣使用。

　　“氣溶膠是分散介質(zhì)為氣體的膠體物系。在一定時(shí)間和空間內(nèi)， 由于重力作用，而形成的一種穩(wěn)定的懸浮物。
　　氣溶膠(Aerosol) 包括，如煙(smoke) ，煙塵(fume)，輕霧(mist)及濃霧(fog)等。同時(shí)氣溶膠分為空氣中懸浮的固態(tài)物質(zhì)(如煙、煙塵等)和液態(tài)物質(zhì)(如輕霧或濃霧等)。幾位學(xué)者把氣溶膠粒徑上限定為10μm;粉塵(dust) 和飛沫核(spray)指，分別在固態(tài)和液態(tài)物質(zhì)中粒徑大于10μm的懸浮物質(zhì)。